- Sections
- C - Chimie; métallurgie
- C25D - Procédés pour la production électrolytique ou électrophorétique de revêtements; galvanoplastie; jonction de pièces par électrolyse; appareillages à cet effet
- C25D 3/38 - Dépôt électrochimique; Bains utilisés à partir de solutions de cuivre
Détention brevets de la classe C25D 3/38
Brevets de cette classe: 1188
Historique des publications depuis 10 ans
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90
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129
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121
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110
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106
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104
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128
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33
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| 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Rohm and Haas Electronic Materials LLC | 637 |
62 |
| Atotech Deutschland GmbH | 586 |
59 |
| JX Nippon Mining & Metals Corporation | 1576 |
46 |
| BASF SE | 19740 |
43 |
| Lam Research Corporation | 4775 |
42 |
| MacDermid Enthone Inc. | 237 |
35 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
22 |
| Novellus Systems, Inc. | 559 |
22 |
| Chang Chun Petrochemical Co., Ltd. | 112 |
20 |
| SK Nexilis Co., Ltd. | 42 |
20 |
| Applied Materials, Inc. | 16587 |
18 |
| Dow Global Technologies LLC | 10147 |
17 |
| Lotte Energy Materials Corporation | 35 |
16 |
| Alchimer | 52 |
14 |
| Circuit Foil Luxembourg | 27 |
14 |
| Suzhou Shinhao Materials LLC | 14 |
14 |
| Toyota Motor Corporation | 28582 |
11 |
| The Furukawa Electric Co., Ltd. | 3486 |
11 |
| C. Uyemura & Co., Ltd. | 156 |
11 |
| ILJIN Materials Co., Ltd. | 39 |
10 |
| Autres propriétaires | 681 |